SOLUTION
半导体制造中晶圆表面酸碱性气态分子污染(AMC)会造成光刻 T-topping、腐蚀与良率损失;森科华净化学过滤系统按 FFU/FAU 与洁净室回风路径布点,定向去除酸性、碱性、可凝结有机物,与既有洁净室系统兼容改造。
本页信息核验更新于 2026-10-18
AMC 浓度超标直接影响光刻胶工艺与产品良率,且污染源随周边产线与大气环境波动,需要沿风路持续净化而非一次性处理。
按 FAU 新风、FFU 回风与设备排风三条路径布点,配置化学过滤段与低阻阻隔段,按车间实测气体种类定制吸附介质配方。
本方案对应设备见产品中心:回风口复合式空气净化装置、回风箱式驻电极空气净化装置、回风箱 IFD 微静电除尘杀菌净化装置等,支持按风量、风口尺寸与安装形式非标定制。
获取方案与报价:18917552382(电话与微信同号),或直接致电工程师核算点位与风量。